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簡要描述：Eksma 0至45°AOI的寬帶和激光線反射鏡具有高反射率的寬帶和激光線介電反射鏡（在規(guī)定的較小范圍內(nèi)大于99％），可在0°至45°的所有入射角下工作。寬帶和激光線反射鏡適用于280-400 nm，349-355 nm，400-750 nm，524-532 nm，532 + 1064 nm，750-1100 nm，1047-1064 nm波長范圍。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2021-03-22訪 問 量：805相關(guān)文章
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| 品牌 | Eksma | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 0至45°AOI的寬帶和激光線反射鏡
Eksma 0至45°AOI的寬帶和激光線反射鏡
寬帶介電反射鏡在280-400 nm，400-750 nm，750-1100 nm波長范圍內(nèi)從0°到45°的所有入射角均可工作。
產(chǎn)品介紹
Ø對于（s + p）/ 2偏振，Ravg> 99％，可在0至45°的所有入射角下工作
Ø激光損傷閾值> 1 J / cm2，脈沖為8納秒，典型值為1064 nm
具有高反射率的寬帶和激光線介電反射鏡（在規(guī)定的較小范圍內(nèi)大于99％），可在0°至45°的所有入射角下工作。寬帶和激光線反射鏡適用于280-400 nm，349-355 nm，400-750 nm，524-532 nm，532 + 1064 nm，750-1100 nm，1047-1064 nm波長范圍。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產(chǎn)品型號
基材: UVFS
型號 | 材料 | D | ET | R, % (S+P)/2 | AOI | 波長 |
041-0257-i0-45 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 0-45° | 257 nm |
042-0257-i0-45 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 0-45° | 257 nm |
086-2840-i0-45 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 0-45° | 280-400 nm |
082-2840-i0-45 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 0-45° | 280-400 nm |
041-0350-i0-45 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.5% | 0-45° | 343-355 nm |
042-0350-i0-45 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.5% | 0-45° | 343-355 nm |
086-4075-i0-45 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 0-45° | 400-750 nm |
082-4075-i0-45 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 0-45° | 400-750 nm |
085-4075-i0-45 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0-45° | 400-750 nm |
041-0530HHR-i0-45 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.9% | 0-45° | 524-532 nm |
042-0530HHR-i0-45 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.9% | 0-45° | 524-532 nm |
061-5306HHR-i0-45 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.7% | 0-45° | 532+1064 nm |
062-5306HHR-i0-45 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.7% | 0-45° | 532+1064 nm |
086-7511-i0-45 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 0-45° | 750-1100 nm |
082-7511-i0-45 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 0-45° | 750-1100 nm |
085-7511-i0-45 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0-45° | 750-1100 nm |
041-0800HHR-i0-45 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.9% | 0-45° | 760-840 nm, Low GDD |
042-0800HHR-i0-45 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.9% | 0-45° | 760-840 nm, Low GDD |
041-1060HHR-i0-45 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.7% | 0-45° | 1047-1064 nm |
042-1060HHR-i0-45 | UVFS | 25.4 mm | 6 mm | 99.7% | 0-45° | 1047-1064 nm |
基材: BK7
型號 | 材料 | D | ET | R, % (S+P)/2 | AOI | 波長 |
076-4076-i0-45 | BK7 | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 0-45° | 400-750 nm |
072-4075-i0-45 | BK7 | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 0-45° | 400-750 nm |
075-4075-i0-45 | BK7 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0-45° | 400-750 nm |
076-7511-i0-45 | BK7 | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 0-45° | 750-1100 nm |
072-7511-i0-45 | BK7 | 25.4 mm | 6 mm | 99.0% | 0-45° | 750-1100 nm |
075-7511-i0-45 | BK7 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0-45° | 750-1100 nm |
基材
材料 | UV級熔融石英 |
S1表面平整度 | λ/10 typical at 633 nm |
S1表面質(zhì)量 | 20-10 表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) |
S2表面質(zhì)量 | 簡單拋光 |
直徑公差 | + 0.00 mm, - 0.12 mm |
厚度公差 | ± 0.25 mm |
楔 | < 3 minutes |
倒角 | 0.3 mm at 45° typical |
鍍膜
技術(shù) | 電子束多層電介質(zhì) |
附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。不溶于實(shí)驗(yàn)室溶劑 |
通光孔徑 | 超過中心直徑的85％ |
損傷閾值 | 1 J / cm2，8納秒脈沖，典型值1064 nm |
鍍膜表面平整度 | 633 nm處的λ/ 10超過直徑的85％ |
入射角 | 從0°到45° |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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